SACHEM, SPIE 첨단 리소그래피 컨퍼런스 참가

2월 23~27일  SACHEM 직원이 캘리포니아주, 새너제이에서 열리는 2014 SPIE 첨단 리소그래피 컨퍼런스에 참가합니다.  38년 동안 SPIE는 차세대 집적 회로를 가공하는 과정에서 나타나는 과제를 해결하기 위해 지역 사회와 힘을 합쳐 노력했습니다.

SACHEM은 20여 년 동안 전자 분야에서 현상액 제조에 사용하는 전자 배합 성분을 공급해 온 선두 업체입니다. 대부분의 현상액은 TMAH(테트라메틸암모늄하이드록사이드) 및 TBAH(테트라부틸암모늄하이드록사이드)를 사용하여 용해하고 있습니다. SACHEM은 전자 업계에서 증가하는 성능, 안전 및 품질 표준을 충족할 수 있는 Envure DV™https://sacheminc.com/solutions/ic-development/를 제공합니다.  Envure DV™는 포토레지스트 현상액과 리소그래피 응용 분야용으로 특별 설계되었습니다.