2014年6月10日、木曜日 SACHEMの専門家にはSEMICON West in the new Texas Pavilion, booth #2334からアクセスでき、マイクロエレクトロニクス製造業のために特別に設計された実績ある製品ラインについて話し合うことができます。Envureシステム™は高純度有機溶剤のプラットフォームおよび複合の現像剤、クリーニング、エッチング、およびストリッピング用途のための次世代の電子製剤のコンポーネントです。さらに、SACHEMは3D処理用の革新的な新規ソリューションを発表しています。
SACHEMのEnvure System™は以下の製品ラインを含んでいます。
• Envure CL™- Envure CM™ – IC用途のクリーナー配合成分
• Envure DV™ リトグラフィー用途の現像剤配合
• Envure SE™- 高感度エッチング 用途の配合成分
• Envure ST(TM) — ストリップ用途の湿式性能製品
今日焦点が当てられているのは、高度なICアーキテクチャを対象として、ますます複雑になっている工程統合のスキームにおいて、要求される高性能な溶液です。SACHEMのEnvure System™製品は、化学品配合業者、OEM、およびチップ製造業者に対して、こうした溶液を作成する上で作業を行うための広範なパレットを提供します。
SACHEMの新型TSV発現エッチング液は、TMAHやKOHより2～4倍速いエッチング速度で高速のシリコン・エッチングおよびスムーズな表面仕上げを実現するように設計されています。 この新しいソリューションは、3D パッケージング用途に関するウェーハ洗浄、除去、選択的エッチング、フォトレジスト現像剤の化学物質溶液を作成する配合者によって用いられる化学成分ポートフォリオの一部です。
「SACHEMの現像用発現エッチング薬品は処方での当社のコア能力、シリコン・エッチングの広範囲な知識および高純度の専門技術を組み合わせています。「当社の溶液はエッチング速度および表面の粗さを最適化します」と、SACHEM社のグローバル・電子材料市場マネージャーのケビン・マクラーリンが言います。「私たちは、SSECおよび当社の専門知識を組み合わせることによりTSVプロセスを可能にする重要な前進を成し遂げました」とマクラーリンが言います。
SEMICON Westはカリフォルニア州サンフランシスコで7月8日から10日まで開催されます。最先端の設備、プロセスおよび材料から、最新の設計による溶液および製造課題まで、SEMICON　 Westではあなたをマイクロエレクトロニクスの将来を推進する人、製品、および技術におつなぎします。
SACHEM, Inc.は米国、オランダ (ザールトボンメル)、日本、および中国において総合的な商業活動を行っているグローバルな化学品製造販売会社です。SACHEM社はフォトレジスト現像液、選択的エッチング剤、およびウェーハ洗浄剤に使用される製品の主導的なサプライヤーです。当社の高純度に関する知識は、複雑な選択的目標を達成する新規な配合成分の設計を可能にします。テキサス州オースチンに拠点を置くSACHEMは、北アメリカ、ヨーロッパ、およびアジアの製造と研究に関する施設など世界的に業務を拡大しており、そのグローバル サービスのネットワークおよび出先機関の所在地は30以上の国々に及んでいます。より詳細な情報については、TMAH Safety Best Practicesから当社にお問い合わせください。もしくは、当社より具体的な相談の打ち合わせをさせていただきます。