德克萨斯州，奥斯汀 2012 年 8 月 6 日 – 对半导体制造过程中的四甲基氢氧化铵 (TMAH) 的安全和环保处理在生产线运作的所有阶段均至关重要。SACHEM 率先开发出真正做到回收和再利用从生产线运作过程中收回的四甲基氢氧化铵 (TMAH) 的系统。届时，SACHEM 的首席技术官 Craig Allen 博士将会出席于 2012 年 10 月 23 日到 24 日在加利福尼亚州圣何塞举办的 SEMI 战略材料会议并审查适用于四甲基氢氧化铵 (TMAH) 的回收和再利用选项。

2012 战略材料会议 (SMC) 致力于探索在高级电子材料领域中的协同效应、最新趋势和商业机遇。

“由于在线形蚀刻前端和线形芯片薄化后端中四甲基氢氧化铵的广泛使用，生成了大量四甲基氢氧化铵废物，这更增加了光刻过程中产生的显影剂和冲洗所生成的大量废物。”SACHEM, Inc. 的首席技术官 Craig Allen 博士表示，“与此同时，减少废物以改善化学效率的需求和更严格的排放限制对传统的废物处理过程和模式提出了挑战。基于我们在商业规模操作的丰富经验，届时我们将展示四甲基氢氧化铵 (TMAH) 的回收和再利用选项概览。”

SACHEM 总部位于德克萨斯州奥斯汀，是一家化学科学公司，在北美洲、欧洲、中国和日本设有完备的商业运营部门和研究机构。我们的技术以高纯度为核心，并已成功应用于电子材料、油田化学品、催化剂、聚合物、制药、农药、生物技术和能源材料等市场。